99.99% độ tinh khiết HIP vòng Electrostatic bột phủ súng với bề mặt đánh bóng kết thúc

Mô tả sản phẩm:

Cấu trúc tinh thể của mục tiêu phun kim loại có thể được tùy chỉnh để đáp ứng các yêu cầu độc đáo của mỗi ứng dụng.cần thiết để đạt được kết quả tối ưuBề mặt cũng có thể được anodized để tăng độ bền và chống mòn.

Độ tinh khiết của Metal Sputtering Target là 99,99%, đảm bảo rằng nó cung cấp hiệu suất nhất quán theo thời gian.Mức độ tinh khiết cao này đạt được thông qua một quy trình sản xuất nghiêm ngặt bao gồm việc sử dụng công nghệ và kỹ thuật tiên tiến.

Mục tiêu phun kim loại được liên kết với indium, cung cấp một kết nối mạnh mẽ và đáng tin cậy với chất nền.Quá trình gắn kết này là rất quan trọng để đảm bảo rằng mục tiêu được cố định vững chắc trong quá trình phun.

Metal Sputtering Target tương thích với một loạt các hệ thống phun, bao gồm cả những người sử dụng súng phủ bột điện tĩnh, sợi thép carbon I hoặc súng keo nóng chảy.Sự tương thích này làm cho nó trở thành một sản phẩm linh hoạt có thể được sử dụng trong một loạt các ứng dụng công nghiệp và khoa học.

Nhìn chung, Metal Sputtering Target là một sản phẩm chất lượng cao mang lại hiệu suất đáng tin cậy và nhất quán.và độ tinh khiết cao làm cho nó một sự lựa chọn lý tưởng cho một loạt các ứng dụng, trong khi liên kết mạnh với indium đảm bảo rằng nó vẫn vững chắc trong quá trình phun.

Đặc điểm:

• Tên sản phẩm: Meta Sputtering Target
• Độ thô bề mặt: Ra < 0,8 Um
• Cấu hình mục tiêu: đơn hoặc nhiều
• Bề mặt: Đánh bóng, Anodizing
• Xét bề mặt: Đánh bóng
• Độ tinh khiết: 99,99%

Sản phẩm mục tiêu phun kim loại này là lý tưởng cho các ngành công nghiệp đòi hỏi kim loại tinh khiết cao cho các quy trình của họ.Cấu hình mục tiêu có thể là mục tiêu duy nhất hoặc nhiều mục tiêu, tùy thuộc vào yêu cầu của bạn. bề mặt có thể được đánh bóng hoặc anodized, tùy thuộc vào sở thích của bạn.Độ tinh khiết của kim loại là 99sản phẩm này là một thành phần quan trọng trong 3D in bột kim loại, thép carbon I Beam,và quy trình sản xuất súng keo nóng chảy.

Các thông số kỹ thuật:

Ứng dụng:

Một trong những ứng dụng chính của Metal Sputtering Target là trong sản xuất bán dẫn. Nó thường được sử dụng như một vật liệu lắng đọng cho lớp phủ phim mỏng trên miếng wafer silicon.Metal Sputtering Target cũng được sử dụng trong sản xuất pin mặt trờiNgoài ra, vật liệu này lý tưởng để sử dụng trong sản xuất các phương tiện lưu trữ từ tính, chẳng hạn như ổ đĩa cứng.

Một ứng dụng khác của Metal Sputtering Target là trong sản xuất lớp phủ trang trí.Vật liệu này được sử dụng trong súng phủ bột điện tĩnh để tạo ra một lớp phủ mịn và thậm chí trên các bề mặt khác nhau, bao gồm kim loại, nhựa và thủy tinh. Metal Sputtering Target cũng được sử dụng trong sản xuất kim loại hợp kim thép hiệu suất cao,thường được sử dụng trong ngành công nghiệp hàng không vũ trụ và ô tô.

Hơn nữa, mục tiêu phun kim loại được sử dụng rộng rãi trong sản xuất các thiết bị và thiết bị y tế. Vật liệu này được sử dụng trong sản xuất bộ tạo nhịp tim, máy trợ thính,và cấy ghép y tế khácNó cũng được sử dụng trong sản xuất các dụng cụ y tế và công cụ.

Metal Sputtering Target tương thích với một loạt các quy trình sản xuất, bao gồm ép bằng cách ép nóng (HIP) và các quy trình gia công khác nhau.Nó cũng lý tưởng để sử dụng trong các ứng dụng đòi hỏi độ chính xác và chính xác caoVật liệu có thể được cấu hình như một mục tiêu duy nhất hoặc nhiều, tùy thuộc vào các yêu cầu ứng dụng cụ thể.

Metal Sputtering Target cũng phù hợp để sử dụng trong máy dò kim loại vận chuyển. Nó có khả năng chống ăn mòn và mài mòn cao, làm cho nó trở thành lựa chọn lý tưởng để sử dụng trong môi trường khắc nghiệt.Vật liệu này cũng dễ làm sạch và bảo trì, làm cho nó trở thành một giải pháp hiệu quả về chi phí cho các ứng dụng khác nhau.

Tùy chỉnh:

Tùy chỉnh mục tiêu phun kim loại của bạn với Dịch vụ tùy chỉnh sản phẩm của chúng tôi.

• Độ thô bề mặt: Ra < 0,8 Um
• Bề mặt: Đánh bóng, Anodizing
• Cấu trúc tinh thể: Tùy chỉnh
• Hình dạng: tròn
• Quá trình hình thành: Châm nóng bằng cách ép bằng cách Isostatic ((HIP))

Mục tiêu phun kim loại của chúng tôi được làm bằng chất lượng cao Carbon Steel I Beam và tương thích với công nghệ phát hiện kim loại tự do.chúng tôi cung cấp bột kim loại in 3D cho nhu cầu tùy chỉnh của bạn.

Hỗ trợ và Dịch vụ:

Các sản phẩm mục tiêu phun kim loại của chúng tôi được thiết kế để đáp ứng các yêu cầu đòi hỏi của lắng đọng phim mỏng trong các ngành công nghiệp bán dẫn, hiển thị và năng lượng mặt trời.Chúng tôi cung cấp một loạt các vật liệu bao gồm cả kim loại tinh khiết, hợp kim, và gốm sứ trong các hình dạng và kích thước khác nhau để phù hợp với nhu cầu quy trình cụ thể của bạn.

Nhóm hỗ trợ kỹ thuật của chúng tôi sẵn sàng giúp bạn với bất kỳ câu hỏi nào bạn có thể có về các mục tiêu phun của chúng tôi bao gồm lựa chọn vật liệu, liên kết mục tiêu và tối ưu hóa quy trình.Chúng tôi cũng cung cấp thiết kế mục tiêu tùy chỉnh và sản xuất dịch vụ để đáp ứng các yêu cầu độc đáo của bạn.

Ngoài các sản phẩm mục tiêu phun của chúng tôi, chúng tôi cũng cung cấp một loạt các dịch vụ để hỗ trợ quá trình lắng đọng phim mỏng của bạn.

• Dịch vụ giao hàng mục tiêu
• Mục tiêu tái chế và phục hồi
• Tính đặc trưng và phân tích màng mỏng
• Bảo trì và sửa chữa thiết bị

Mục tiêu của chúng tôi là cung cấp cho bạn các sản phẩm và dịch vụ chất lượng cao để giúp bạn đạt được mục tiêu lắng đọng phim mỏng của bạn.Liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để tìm hiểu thêm về các sản phẩm và dịch vụ của chúng tôi.