Mục tiêu kim loại tùy chỉnh cho lớp phủ phun đơn hoặc nhiều cấu hình Ra 0.8 Um

Mô tả sản phẩm:

Metal Sputtering Target được liên kết bằng cách sử dụng indium, kết quả là một liên kết mạnh mẽ và bền.cần thiết cho việc sản xuất các tấm mỏng chất lượng caoMục tiêu có độ tinh khiết 99,99%, đảm bảo rằng các bộ phim được sản xuất có chất lượng cao nhất.

Metal Sputtering Target tương thích với một loạt các chất nền, và có thể được tùy chỉnh để đáp ứng các yêu cầu cụ thể của ứng dụng của bạn.Điều này làm cho nó một sự lựa chọn lý tưởng cho một loạt các ứng dụng, bao gồm cả việc lắng đọng các tấm mỏng trên thép carbon I, thép H và các nền khác.

Metal Sputtering Target có mật độ tùy chỉnh, cho phép đạt được độ dính tuyệt vời và chất lượng phim. mật độ cao của mục tiêu cũng đảm bảo rằng nó có tuổi thọ dài,làm giảm nhu cầu thay thế và bảo trì thường xuyên.

Cho dù bạn đang làm việc trong ngành công nghiệp bán dẫn, ngành công nghiệp phim mỏng, hoặc bất kỳ ngành công nghiệp nào khác đòi hỏi các mục tiêu phun chất lượng cao, mục tiêu phun kim loại của chúng tôi là sự lựa chọn hoàn hảo.Nó là một, sản phẩm bền và hiệu quả sẽ giúp bạn đạt được mục tiêu sản xuất và đáp ứng nhu cầu của khách hàng.

Đặc điểm:

• Tên sản phẩm: Meta Sputtering Target
• Độ thô bề mặt: Ra < 0,8 Um
• Vật liệu: kim loại
• Hình dạng: tròn
• Xích mục tiêu: Indium
• Cấu trúc tinh thể: Tùy chỉnh

Sử dụng sản phẩm Metal Sputtering Target cho các ứng dụng như:

• Vũ khí phủ bột điện tĩnh
• Máy vận chuyển máy dò kim loại công nghiệp
• Máy dò kim loại cầm tay

Các thông số kỹ thuật:

Ứng dụng:

Metal Sputtering Target tương thích với một loạt các chất nền, bao gồm Carbon Steel I Beam, Alloy Steel Metal và các vật liệu tương tự khác.Điều này làm cho nó trở thành một sản phẩm linh hoạt có thể được sử dụng trong nhiều ứng dụng công nghiệpNó có mức độ tinh khiết là 99,99%, đảm bảo rằng các bộ phim mỏng được sản xuất có chất lượng cao và có tính chất nhất quán.

Mục tiêu Sputtering kim loại được liên kết với Indium, đảm bảo gắn kết mạnh với chất nền trong quá trình phun.Điều này làm cho nó trở thành một sản phẩm lý tưởng để sử dụng trong các ứng dụng mà một quá trình lắng đọng đáng tin cậy và ổn định là cần thiết.

Metal Sputtering Target được sử dụng rộng rãi trong ngành công nghiệp bán dẫn để sản xuất các tấm mỏng trên các tấm silicon. Nó cũng được sử dụng trong sản xuất pin mặt trời, màn hình phẳng,và các thiết bị điện tử khácNgoài ra, nó được sử dụng trong ngành công nghiệp hàng không vũ trụ để sản xuất các vật liệu tiên tiến được sử dụng trong các thành phần máy bay.

Metal Sputtering Target cũng có thể được sử dụng trong ngành y tế để sản xuất các màng mỏng được sử dụng trong các thiết bị y tế.Nó cũng được sử dụng trong ngành công nghiệp ô tô để sản xuất lớp phủ bảo vệ bề mặt của các bộ phận ô tô khỏi ăn mòn và mòn.

Tóm lại, Metal Sputtering Target là một sản phẩm rất linh hoạt có thể được sử dụng trong một loạt các ứng dụng công nghiệp.tương thích chất nền, mức độ tinh khiết cao và liên kết Indium làm cho nó trở thành sản phẩm lý tưởng để sử dụng trong các ngành công nghiệp bán dẫn, hàng không vũ trụ, y tế và ô tô.

Tùy chỉnh:

Mục tiêu phun kim loại của chúng tôi có thể được tùy chỉnh để đáp ứng nhu cầu cụ thể của bạn.

• Cấu hình mục tiêu: Các mục tiêu đơn hoặc nhiều có thể được cấu hình để đáp ứng yêu cầu của bạn.
• Vật liệu: Mục tiêu của chúng tôi được làm bằng vật liệu kim loại chất lượng cao.
• Xích mục tiêu: Xích Indium có sẵn cho hiệu suất tối ưu.
• Kỹ thuật: Mục tiêu của chúng tôi được rèn và CNC gia công để chính xác và bền.
• Cấu trúc tinh thể: Cấu trúc tinh thể tùy chỉnh có sẵn để đáp ứng nhu cầu ứng dụng cụ thể của bạn.

Ngoài ra, chúng tôi cung cấp dịch vụ in 3D bột kim loại, máy vận chuyển máy dò kim loại công nghiệp và máy dò kim loại máy vận chuyển để tùy chỉnh thêm sản phẩm của bạn.

Hỗ trợ và Dịch vụ:

Hỗ trợ kỹ thuật và dịch vụ sản phẩm Metal Sputtering Target bao gồm:

• Tư vấn chuyên gia về lựa chọn mục tiêu và tùy chỉnh cho các ứng dụng cụ thể
• Hỗ trợ lắp đặt và bảo trì mục tiêu
• Thông số kỹ thuật sản phẩm chi tiết và dữ liệu hiệu suất
• Phá lỗi kỹ thuật và giải quyết vấn đề
• Dịch vụ liên kết mục tiêu tùy chỉnh
• Đào tạo và giáo dục về các quy trình và thiết bị phun
• Dịch vụ bảo hành và sửa chữa sản phẩm