Mục tiêu phun hợp kim Indium với các chất nền tùy chỉnh được đánh bóng và anodized

Mô tả sản phẩm:

Sản phẩm Metal Sputtering Target của chúng tôi tự hào về bề mặt đánh bóng và anodized, cung cấp cho bạn một bề mặt mịn màng và sạch sẽ cho quá trình lắng đọng kim loại của bạn.Tính năng tương thích chất nền tùy chỉnh của sản phẩm này là điều làm cho nó khác biệt với các mục tiêu phun kim loại khác có sẵn trên thị trườngVới tính năng này, bạn có thể đảm bảo rằng sản phẩm này tương thích với vật liệu nền cụ thể của bạn, đảm bảo quy trình lắng đọng hiệu quả hơn.

Sản phẩm của chúng tôi không chỉ linh hoạt mà còn bền, nó được chế tạo đặc biệt để chịu được môi trường khắc nghiệt của máy dò kim loại,đảm bảo rằng nó sẽ phục vụ mục đích của nó trong một thời gian dàiĐộ bền của nó cũng được chứng minh khi được sử dụng trong một máy dò kim loại rơi tự do, nơi nó có thể chịu được tác động của các hạt kim loại.

Hãy đặt tay vào sản phẩm Metal Sputtering Target của chúng tôi ngay hôm nay và trải nghiệm sự khác biệt trong quá trình lắng đọng kim loại của bạn.mật độ và cấu trúc tinh thể tùy chỉnh, và tính tương thích nền tùy chỉnh làm cho nó là sự lựa chọn hoàn hảo cho nhu cầu lắng đọng kim loại của bạn.

Đặc điểm:

• Tên sản phẩm: Meta Sputtering Target
• Quá trình hình thành: Châm nóng bằng cách ép bằng cách Isostatic ((HIP))
• Cấu hình mục tiêu: đơn hoặc nhiều
• Độ thô bề mặt: Ra < 0,8 Um
• Độ dày: 10-600mm
• Cấu trúc tinh thể: Tùy chỉnh

Các thông số kỹ thuật:

Ứng dụng:

Sản phẩm mục tiêu phun kim loại có sẵn trong cấu hình đơn hoặc nhiều, tùy thuộc vào các yêu cầu cụ thể của ứng dụng.đảm bảo một liên kết mạnh mẽ giữa mục tiêu và tấm hỗ trợĐiều này đảm bảo rằng sản phẩm có thể chịu được việc ném bom ion năng lượng cao thường liên quan đến các ứng dụng phun.

Sản phẩm Metal Sputtering Target là lý tưởng để sử dụng trong một loạt các kịch bản. Ví dụ, nó có thể được sử dụng trong sản xuất thép H Beam,nơi nó được sử dụng để phủ thép bằng một lớp mỏng của một vật liệu khácĐiều này giúp cải thiện độ bền và hiệu suất của thép, làm cho nó lý tưởng để sử dụng trong một loạt các ứng dụng.

Sản phẩm cũng có thể được sử dụng trong sản xuất máy dò kim loại vận chuyển.Sản phẩm Metal Sputtering Target được sử dụng để tạo ra một bộ phim mỏng được đặt trên bề mặt băng chuyềnBộ phim mỏng giúp cải thiện độ nhạy của máy dò kim loại, làm cho nó hiệu quả hơn trong việc phát hiện các vật kim loại có thể có mặt trên băng chuyền.

Sản phẩm Metal Sputtering Target được thiết kế với độ thô bề mặt Ra < 0, 8 Um. Điều này đảm bảo sản phẩm đồng nhất và nhất quán cao,cần thiết để đạt được kết quả phun chất lượng caoSản phẩm cũng được thiết kế để có độ bền cao, đảm bảo rằng nó có thể chịu được việc ném bom ion năng lượng cao thường liên quan đến các ứng dụng phun.

Tùy chỉnh:

Tùy chỉnh sản phẩm Metal Sputtering Target của bạn với Dịch vụ tùy chỉnh sản phẩm của chúng tôi.

Cấu trúc tinh thể:Tùy chỉnh

Bề mặt:Xét bóng,Anodizing

Độ tinh khiết99.99%

Phương pháp sơn:Chảy bột

Kỹ thuật:Được rèn và máy CNC

Với khẩu súng phủ bột điện tĩnh của chúng tôi, mục tiêu của bạn sẽ có một lớp phủ chất lượng cao mà là cả nhất quán và bền.bạn có thể chắc chắn rằng sản phẩm của bạn không có bất kỳ tạp chất nàoHãy để chúng tôi giúp bạn tạo ra một mục tiêu kim loại phù hợp với yêu cầu của bạn.

Hỗ trợ và Dịch vụ:

Mục tiêu phun kim loại của chúng tôi được sản xuất theo tiêu chuẩn chất lượng cao nhất và có sẵn trong nhiều loại vật liệu và kích thước.Nhóm hỗ trợ kỹ thuật của chúng tôi sẵn sàng hỗ trợ bạn với bất kỳ câu hỏi hoặc vấn đề liên quan đến việc sử dụng sản phẩm của chúng tôiChúng tôi cũng cung cấp một loạt các dịch vụ, bao gồm cả mục tiêu gắn kết, mục tiêu tái chế, và sản xuất mục tiêu tùy chỉnh.Mục tiêu của chúng tôi là cung cấp cho khách hàng của chúng tôi với trải nghiệm tốt nhất có thể khi sử dụng mục tiêu bột kim loại của chúng tôi.